Вакуумный метод
Вакуумный метод. В промышленности широко распространено получение тонких пленок испарением материалов в вакууме с последующим осаждением (напылением) на заготовку. С помощью этого метода можно изготовлять тонкие слои из самых различных материалов с весьма разнообразными свойствами. Находят широкое применение металлические, диэлектрические, магнитные, сегнетоэлектрические, полупроводниковые и другие пленки.
Изготовляемые на основе металлических пленок разнообразные шкалы, сетки, лимбы и другие подобные им изделия используются в приборостроении, машиностроении, астрономии, измерительной и космической технике и т. д.
В практике установилась классификация вакуумных покрытий в зависимости от их толщины: до 1 мкм — тонкие пленки, до 10 мкм — толстые пленки, свыше 10 мкм — конденсаты.
Наиболее существенное влияние на качество пленок оказывают: скорость конденсации, степень вакуума, чистота материала, способ его испарения, температура подложки и угол поступления паров металла на подложку и другие. Прочность же сцепления нанесенных слоев зависит от шероховатости покрываемой поверхности, а также от типа пары пленка—подложка. Металлы, склонные к образованию окисей (хром, титан и др.), обычно обнаруживают хорошую адгезию к стеклу, в то время как золото и серебро связываются со стеклом слабо и легко удаляются с его поверхности. Перед покрытием заготовки в течение суток обезжиривают в створе хромовой смеси, которая состоит из серной кислоты с хромпиком. Затем их промывают в технической и дистиллированной воде и тщательно протирают фланелевой салфеткой. Далее чистят крокусом (поляритом) с помощью ватного тампона и воды. Очищенную поверхность смачивают спиртом-ректификатом и протирают батистовой салфеткой. Затем заготовку помещают под колпаком на столике специальной вакуумной установки для нанесения на ее поверхности алюминиевой пленки.